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    “中国芯”关键材料国产化

    三乙硅烷基胺 (TDSA)
    • 中文名:三乙硅烷基胺
    • 英文名:Trisdisilanylamine
    • CAS号:14635-45-1
    • 纯度:≥98.0%
    • 用途:通过化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD)形成含硅薄膜
    • 规格:公斤级
    1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷 (TADS)
    1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷 (TADS)
    • 中文名:1,1,1-三(二甲氨基)乙硅烷
    • 英文名:1,1,1-Tris(dimethylamino)disilane
    • CAS号:2273763-87-2
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:通过等离子体加强原子层沉积(PEALD)形成高密度氧化硅
    • 规格:公斤级
    二异丙氨基乙硅烷 (DPDS)
    • 中文名:二异丙氨基乙硅烷
    • 英文名:Diisopropylaminodisilane
    • CAS号:151625-25-1
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:通过气相沉积形成晶种层
    • 规格:公斤级
    1,1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷 (DCDADS)
    • 中文名:1,1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
    • 英文名:1,1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
    • CAS号:2152681-89-3
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:通过等离子体加强原子层沉积(PEALD)形成氮化硅
    • 规格:公斤级
    五氯乙硅烷 (PCDS)
    • 中文名:五氯乙硅烷
    • 英文名:Pentachlorodisilane
    • CAS号:31411-98-0
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:通过等离子体加强原子层沉积(PEALD)形成氮化硅
    • 规格:公斤级
    1,1,1-三氯乙硅烷 (3CDS)
    • 中文名:1,1,1-三氯乙硅烷
    • 英文名:1,1,1-Trichlorodisilane
    • CAS号:78228-96-3
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:通过等离子体加强原子层沉积(PEALD)形成氮化硅
    • 规格:公斤级
    2,2,4,4-四甲硅烷基戊硅烷 (BNS)
    • 中文名:2,2,4,4-四甲硅烷基戊硅烷
    • 英文名:2,2,4,4-Tetrasilylpentasilane
    • CAS号:1668602-96-7
    • 纯度:≥98.0%
    • 用途:在低温通过化学气相沉积(CVD)快速形成外延硅和多晶硅
    • 规格:公斤级
    新戊硅烷(NPS)
    • 中文名:新戊硅烷
    • 英文名:Neopentasilane
    • CAS号:15947-57-6
    • 纯度:≥99.0%
    • 用途:在低温通过化学气相沉积(CVD)快速形成外延硅和多晶硅
    • 规格:公斤级
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