hg8888皇冠

  • 创新hg8888皇冠

    打造具有国际竞争⼒的⾼纯电⼦材料研发创新中⼼


    四大核心技术优势

    持续攻克“卡脖子”,打破封锁,创造了许多项“中国第一”

    中国制造的第一瓶三甲基镓、三甲基铟、三甲基铝、三乙基镓等MO源产品;
    第一瓶砷烷、磷烷
    第一支193nm ArF光刻胶
    • 863

      国家高技术研究发展计划
    • 02

      专项计划
    • 17%

      硕⼠学位以上占⽐
    • 215

      研发专家

    科研实力

    江苏南⼤光电研发中⼼致⼒于国家急需的关键电⼦材料的研发和产业化,研发⽅向 包括先进光刻胶、特种⽓体、泛半导体材料、原⼦层沉积前驱体及OLED有机新材料等。

    实验室

    实验室

    中⼼拥有13500平⽶现代化实验室以及众多先进的研发、分析、测试设备,包括 193nm浸没式光刻机1台、⾼分辨核磁5台、ICP-MS4台、ICP-OES 2台、各种 质谱3台以及进⼝升华仪.蒸镀机、荧光光谱仪.OLED光电测试lVL系统等其他⼤型仪器。

    创新平台

    创新平台

    国家⾼新技术企业
    江苏省⾼纯电⼦材料⼯程研究中⼼
    江苏省企业技术中⼼
    江苏省⾼纯⾦属有机化合物MO源材料⼯程技术研究中⼼
    博⼠后科研⼯作站
    江苏省外国专家⼯作室
    材料科学姑苏实验室

    研发团队

    研发团队

    中⼼拥有研发⼈员215⼈,其中外籍专家9⼈,国家级重大人才工程3人,江苏省“双创⼈才”7名,姑苏创新创业领军⾼端⼈才6名。团队中博⼠学位14名,硕⼠学位以上占⽐超过17%。

    技术突破

    • 打破封锁

      1986年,MO源作为前驱体核心材料纳入国家高技术发展计划。
      2000年,hg8888皇冠成立,MO源成功实现产业化,成功打破“巴统”和国外公司的技术垄断,并在“神舟”飞船、“东4”大卫星平台系列卫星等hg8888皇冠器的太阳能电池上成功得到运用,为我国hg8888皇冠事业和国防建设的发展做出了突出的贡献。

    • 产业提升

      2016 年,承接国家“02-专项”,现已建成具备合成、纯化、分析、封装等功能的ALD前驱体研发中心和生产线,完全满足相关芯片产品的制造要求。

    • 国际领先

      2017年11月,引入陶氏化学的高K三甲基铝生产线,2020年10月正式投产,在开发高端半导体的进程中,扮演关键材料供应商的重要市场角色。 2020年12月,跨国并购杜邦集团19项专利资产组,6项技术属于全球首创技术,一举迈入国际领先的前驱体材料企业行列。

    • 自主创新

      2013年,获得国家“02-专项”高纯特种电子气体研发与产业化项目支持。
      2016年,经过3年的技术开发,成功实现了国内30年未能解决的高纯砷烷、磷烷等特种电子气体的研发和产业化难题,一举打破了国外技术封锁和垄断,为我国极大规模集成电路制造提供了核心原材料。

    • 替代进口

      目前,砷烷品质己达到7N,技术居全球前列,产能跃居全球第一,并进入国际一流公司供应链。磷烷的技术水平也已居全球前列,产能为全球第二。

    • 产业整合

      2019年8月,hg8888皇冠成功并购飞源气体,开始布局氟系列电子特气。依托hg8888皇冠客户、机制和技术优势,进行60多项技术创新,迅速提升产能、品质,降低成本,二年实现三氟化氮产能4000吨、六氟化硫产能3000吨,成本全球领先,产能国内第二、全球第三。

    • 国际领先

      2017年11月,引入陶氏化学的高K三甲基铝生产线,2020年10月正式投产,在开发相关半导体的进程中,扮演关键材料供应商的重要市场角色。
      2020年12月,跨国并购杜邦集团19项专利资产组,6项技术属于全球首创技术,一举迈入国际领先的前驱体材料企业行列。

    • 打破技术封锁

      2017年,公司承接国家“02-专项”高分辨率光刻胶产品关键技术的研究项目,达到光刻胶基础配方分辨率相关技术节点要求和项目原定的技术指标要求,得到了“02-专项”项目验收专家组的高度认可。
      2018年,02重大专项实施管理办公室决定由hg8888皇冠(中国)有限公司承担193nm浸没式光刻胶产品开发和产业化项目,向我国真正拥有ArF光刻胶产品的方向继续迈进。

    • 实现产业化

      2019年底,公司在宁波市北仑区完成了第一条光刻胶生产线建设,产能达到10吨/年的规模, 第二条光刻胶生产线于2020年完成建设,总产能达到25吨/年。同时在国家重大科技攻关项目的支持下,向光刻胶配套原材料领域展开技术攻关。
      2020年4月,成为中国首个购买ASML 193nm浸没式光刻机的电子材料企业。
      2020年底和2021年5月,193nm ArF光刻胶先后通过存储和逻辑两家芯片制造企业的验证,为量产打下了坚实基础,成为国内首个通过验证的ArF光刻胶产品,ArF光刻胶研发和产业化取得关键性突破,被列为国家攻克“卡脖子”工程的标杆。
      2021年建党100周年前夕,顺利通过国家“02-专项”验收。